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pcb制作八大流程分别为

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PCB(印刷电路板)制作的八大核心流程通常指:

  1. 开料 (Panelization / Cutting):

    • 将大面积的覆铜板(基材)根据设计尺寸要求切割成生产所需的小块工作板(Panel)。
  2. 内层图形转移 (Inner Layer Imaging / Patterning):

    • 前处理: 清洁铜面,去除氧化和油污,增加附着力。
    • 涂覆光刻胶: 在铜箔上均匀涂覆一层感光材料(光刻胶/干膜)。
    • 曝光: 使用带有电路图形的底片(菲林),在紫外光照射下,将图形转移到光刻胶上(被光照部分发生化学反应)。
    • 显影: 用化学药液溶解掉未曝光(负胶)或已曝光(正胶)区域的光刻胶,露出需要蚀刻或保留的铜面。
  3. 内层蚀刻 (Inner Layer Etching):

    • 将显影后露出的不需要的铜箔,通过化学蚀刻液(通常是酸性氯化铜或碱性氨水)溶解掉。
    • 褪膜:去除剩余的保护光刻胶,露出最终需要保留的内层线路图形。
  4. 层压 (Lamination):

    • 黑氧化处理 (可选但常用): 对内层线路板进行微蚀和氧化处理,增加铜面粗糙度,提高与半固化片(Prepreg)的结合力。
    • 叠板: 将制作好的内层芯板、半固化片(作为绝缘粘合层)和铜箔(作为外层)按设计顺序叠放。
    • 压合: 在高温高压下,使半固化片熔融流动并固化,将各层牢固地粘合成一块多层板。
  5. 钻孔 (Drilling):

    • 使用精密钻床或激光钻孔机,在层压后的PCB板上钻出用于安装元器件引脚(通孔、插装孔)和层间电气互连(过孔)所需的孔。这是后续金属化的基础。
  6. 孔金属化 (沉铜电镀) (Plated Through Hole - PTH / Electroless Copper Deposition & Electroplating):

    • 沉铜 (化学沉铜): 在非导电的孔壁基材上,通过化学方法沉积一层非常薄的导电铜层(0.3-0.8微米),使孔壁具有导电性。
    • 全板电镀 (Panel Plating): 通过电镀方式,在沉铜层上继续加厚孔壁和整个板面(包括外层铜箔)的铜层,达到所需的厚度(通常5-8微米以上),确保孔壁导电可靠。
  7. 外层图形转移 (Outer Layer Imaging / Patterning):

    • 流程与内层图形转移类似(前处理→涂覆光刻胶→曝光→显影),但这次是在外层铜箔上形成需要保留的线路图形和保护图形(如焊盘)。显影后,需要蚀刻掉的部分铜箔被光刻胶保护着,需要保留的线路和焊盘则露出来。
  8. 外层蚀刻与褪膜 (Outer Layer Etching & Stripping):

    • 图形电镀 (Pattern Plating - 可选但常用): 在显影后露出的线路和焊盘上电镀一层更厚的铜(增加载流能力)和一层锡/锡铅合金(作为蚀刻保护层)。
    • 蚀刻: 褪去外层的光刻胶后,将未被锡层保护的铜箔蚀刻掉。
    • 褪锡: 去除作为保护层的锡层,露出最终的外层线路图形和焊盘铜面。

重要补充:

总结: 八大流程是PCB制造的主干,但完整的PCB生产还包含表面处理、阻焊、丝印、成型、测试等必不可少的后续工序。表面处理尤其关键,常被视为核心工艺之一,有时在更详细的划分中会单独列出。

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