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pcb全板电镀

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好的,我们来详细解释一下PCB制造中的全板电镀

在中文PCB制造语境中,全板电镀通常指的是面板电镀一次铜电镀。

定义

全板电镀是指在PCB制造流程中,在完成钻孔和孔金属化(沉铜/化学铜)之后,但还未进行外层线路图形转移(贴干膜/涂布光刻胶)之前,对整个覆铜板基材(包括孔壁) 通过电解沉积的方式,均匀地镀上一层较厚的铜层(通常在5-25微米) 的过程。

主要目的

  1. 加厚孔壁铜层: 沉铜/化学铜沉积的铜层非常薄(通常小于1微米),导电性和机械强度都不够。全板电镀的主要目的是在孔壁和内层铜环上沉积足够厚的铜层,确保孔金属化(PTH)的可靠性,使导通孔具有良好的导电性、机械强度和长期可靠性。
  2. 加厚外层铜层基底: 为后续蚀刻形成外层线路图形提供一个足够厚的铜基底。蚀刻时需要减去部分铜,最终线路的厚度取决于初始铜厚加上全板电镀增厚的铜厚减去蚀刻掉的铜厚。
  3. 提供均匀的铜层: 为后续图形电镀提供一个相对平整、均匀的起始表面。

工艺流程位置 (简化)

  1. 下料与内层制作
  2. 压合
  3. 钻孔: 钻通孔、盲孔等。
  4. 去毛刺与清洁: 清理钻孔产生的毛刺和碎屑。
  5. 孔金属化(沉铜/化学铜): 在孔壁和整个板面上化学沉积一层极薄的导电铜层(0.3-1微米),使孔壁导通。
  6. 全板电镀: 在此步骤进行! 在化学铜层上电镀加厚铜层(目标厚度如20微米)。
  7. 外层图形转移: 贴干膜/涂布光刻胶 -> 曝光 -> 显影,形成线路图形的抗蚀层(负片工艺)。
  8. 图形电镀: 选择性电镀线路图形和孔位上的铜(二次铜)和锡铅或锡(作为蚀刻保护层)。
  9. 去膜(退膜): 去掉非线路区域的抗蚀层。
  10. 蚀刻: 蚀刻掉未被镀层保护的铜箔(即非线路区域)。
  11. 退锡(铅): 去掉线路图形上的锡铅或锡保护层,露出最终的铜线路。
  12. 后续工艺: 阻焊、表面处理、字符、成型、测试等等。

全板电镀的特点(对比图形电镀)

技术要求要点

  1. 厚度均匀性: 要求板面不同位置以及孔壁铜厚的均匀性要好,尤其是孔壁中心与板面、孔壁边缘的铜厚差异(称之为“狗骨效应”)需要控制。这涉及到电流分布、搅拌、添加剂的使用等。
  2. 孔铜覆盖率(Throw Power): 电镀液需要具有良好的深镀能力,确保深孔和小孔的孔壁中心也能沉积足够厚的铜。
  3. 结合力: 电镀铜层必须与底层的化学铜层以及基材铜箔(如果有)结合牢固,不能出现分层、起泡。
  4. 结晶结构: 镀层的结晶应细小致密,以获得良好的物理机械性能和后续加工性能。
  5. 表面质量: 镀层表面应光滑、无凹坑、麻点、烧焦等缺陷。

总结

全板电镀(面板电镀)是PCB制造中一个关键的步骤,发生在图形转移之前,目的是在整个板面(特别是孔壁)上均匀地加厚沉积一层铜,以确保导通孔的可靠性和为外层线路提供基础厚度。 它是实现多层板层间互连的基础工艺。对于线路精度和密度要求不高的普通PCB,全板电镀是常用的成熟工艺。但对于高密度互连板,图形电镀工艺更为常见。

希望这个详细的中文解释能帮助你理解PCB全板电镀的含义和作用!

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