如何实现多DIE的QFN建模仿真

描述

前言

随着移动通信技术的发展,系统越趋复杂,同时产品集成度要求也越来越高,系统级封装(SiP)成为了最具潜力的候选方案之一,其将不同制程工艺节点的裸芯片Die集成在一个封装里,在满足器件高性能需求的同时,也减少了芯片设计公司的研发成本和时间。

SiP有多种封装形式,如引线键合、倒装芯片、芯片堆叠、晶圆级封装等。其中,QFN封装由于其底部中央的一大块裸露焊盘被焊接到PCB的散热焊盘上,使得芯片具有极佳的电热性能,使其能广泛应用在射频领域上。

一般芯片厂家主要从事片上设计,对于封装部分交由封装厂去进行设计,芯片设计公司为了保证射频链路的阻抗连续性,需要对封装键合线进行仿真,从而与片上版图结合完成整链路的性能评估。

封装厂一般只会给芯片设计公司提供DXF格式的设计文件,DXF是2D文档,若根据封装厂提供的三维参数进行手动建模,会相当繁琐。为此,芯和半导体Hermes平台提供了Lead Frame流程解决方案,可实现QFN/QFP的DXF文件转3D模型的快速建模,最后结合Hermes 高精度FEM三维全波电磁场求解算法可快速得到求解结果,指导设计优化。

Hermes的Lead Frame建模仿真流程

1.导入DXF设计文件

运行Hermes后,在左上角菜单栏中选择Home的layered流程,再选择Lead Frame流程。在弹出窗口中,选择导入所需的DXF文件。

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图 1 

Lead Frame中导入DXF文件

DXF文件导入后,如下图所示。

红色框:上方为DXF文件对应不同图层,用户可选择打开不同的图层显示,下方为上方对应图层的实时2D图显示结果。

蓝色框:上方的cross section name为cross section(橙色箭头)中配置不同图层的选择层,每确定选择一个层后,下方会依据DXF中对应的图形进行3D建模,用户可实时查看模型的建模情况。

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图2 

Lead Frame窗口说明

2. Cross Section的配置及说明

Mold:芯片的整体塑封外壳,此处设置高度为0.8mm。

Lead Frame:Lead层的厚度,这里设置为0.15mm。

Die:芯片中Die的几何信息,XY坐标可无需手动输入,软件可自动捕捉,用户可根据实际需求,按add键进行Die的添加,只需要输入每个Die的装配高度即可。此案例中,一共有3个Die,Die1和Die2平行靠近lead放置,距离lead的高度为0.15mm,而Die3放置在Die1上,Die3的配置如下橙色框所示,参考Die1的装配高度为0.1mm。

Wire bond:键合线层,用户可在profile中定义键合线的JEDC4/5标准的相关几何信息、线材,线宽等。Start和End分别为键合线打线时的起始和终止位置。此案例中,由于DXF中的wire bond图层共有7个,所以需要设置7种wire bond组合,起始位置分别是Die1->Lead Pad、Die2->Lead Pad、Die1->E Pad、Die2->E Pad、Die3-> E Pad、Die2-> Die1、Die3-> Die1。

NetName:网络名层,封装厂会提供每个die上对应pad的坐标及对应网络名的excel文件,用户导入后,软件可自动为对应的整个网络赋予Excel中对应的网络名。如果没有Excel表格,此处可不填任何信息。

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图 3 

Cross section配置设置

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图4 

wire bond 的profile配置窗口

3. DXF模型的编辑及其Cross section映射配置

为了方便用户使用,Hermes Lead frame流程提供了一定的编辑功能,能对导入的DXF进行有限的编辑。由于提供的DXF的Lead层超出了Mold层,需要对多出来的部分进行切割。首先把DXF的Mold层(PKG LINE)定义出来(红色框),然后使用右键对DXF的Lead层(0_0)进行切割——Cut with Mold。

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图 5 

Lead层编辑

完成切割后,Lead层与Mold平齐,并定义DXF的0_0层为Lead层。

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图表 6 

Lead层切割后

接着在cross section name中,为DXF对应图层配置Die及Die Pad(下图红色框)。

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图 7 

Die信息配置

最后完成键合线配置(下图红色框),此时,可在3D窗口中完整的查看整个QFN模型模型了。点击OK,模型即可回导到Hermes平台的工作界面上。

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图8 

wire bond信息配置

4.叠层属性配置

模型导入到Hermes工作区后,双击Stackup,即可进行叠层及材料属性等配置。

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图表 9 

叠层设置

5.键合线的修改

如下图红色框所示,由于这部分的wire bond在DXF中都是同一个图层,所以出线高度难免是一致的,造成短路问题。所以需要对Die内侧的wire bond走线的起始高度进行抬高——新建一个wire bond模型,对高度及材质类型进行设置。

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图表 10 

新建wire bond模型

选中需要加高的wire bond模型,右键编辑属性,将其定义为上述新建的wire bond模型,至此,完成了wire bond的修改。

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图表11

对异常的wire bond进行重新定义修改

6.模型裁切

对QFN模型所需的仿真的部分进行切割。

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图表 12 

矩形切割

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图表 13 

切割后的模型

7.Port添加

选中要仿真的网络,右键对Die部分网络进行环形端口的添加。

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图表 14

Die上环形端口添加

对于Lead层上pad的端口添加,可以选中pad与E pad的边沿,然后右键添加水平lumped port。

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图表 15 

Lead pad上lumped port添加

8.仿真配置

在Analysis选项中右键添加一个FEM3D_Analysis配置,通过solver option配置求解频率、收敛条件、MPI以及求解Core数量等,完成后右键点击Analysis开始仿真。

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图表 16 

仿真配置

9.仿真结果查看

仿真求解完毕后,可方便地使用芯和半导体的SnpExpert工具进行S参数的批量查看及对比,下图红色曲线为Hermes求解结果,绿色曲线为业界知名的某FEM求解软件结果。从左到右依次为回波损耗、插损及隔离度,其中插损相差不超过0.08dB。

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--Hermes

--REF

图表 17 

仿真结果对比

(点击各图可查看原图)

总结

本文介绍了采用芯和半导体的Hermes平台实现了多DIE下的QFN模型创建。Hermes内置了便捷易用的Lead Frame流程,实现了DXF 二维版图到3D QFN模型的转换,最后通过灵活的切割、端口创建功能快速完成模型的建模和仿真,可满足芯片、封装用户对DXF设计文件进行快速建模仿真的应用场景需求。

关于芯和半导体EDA

芯和半导体提供“半导体全产业链仿真EDA解决方案”,是新一代智能电子产品中设计高频/高速电子组件的重要工具,拥有领先的2.5D/3D Chiplet先进封装设计分析全流程的EDA平台。产品涵盖三大领域::

芯片设计:匹配主流晶圆厂工艺节点,支持定制化PDK构建需求,内嵌丰富的片上器件模型,帮助用户快速精准地实现建模与寄生参数提取。

封装设计:集成多类封装库,提供通孔、走线和叠层的全栈电磁场仿真工具,为2.5D/3DIC先进封装打造领先的统一仿真平台,提高产品开发和优化效率。

系统设计:基于完全自主产权的EDA仿真平台,打通整机系统建模-设计-仿真-验证-测试的全流程,助力用户一站式解决高速高频系统中的信号完整性、电源完整性、热和应力等设计问题。

关于芯和半导体

芯和半导体是一家从事电子设计自动化(EDA)软件工具研发的高新技术企业,以仿真驱动设计,提供覆盖IC、封装到系统的具备完全自主知识产权的全产业链 EDA 解决方案,支持先进工艺与先进封装,致力于赋能和加速新一代高速高频智能电子产品的设计,已在5G、智能手机、物联网、人工智能和数据中心等领域得到广泛应用。

芯和半导体自主创新的下一代集成无源器件IPD平台,以高集成、高性能、小型化为特色,为移动终端、IoT、HPC、汽车电子等客户提供系列集成无源芯片,累计出货量超20亿颗,并被 Yole 评选为全球IPD 滤波器的主要供应商之一。

芯和半导体创建于2010年,运营及研发总部位于上海张江,在苏州、武汉、西安设有研发分中心,在美国硅谷、北京、深圳、成都、西安设有销售和技术支持部门。

审核编辑:汤梓红

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