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光刻机剂量控制器结构与深紫外准分子激光实时曝光剂量控制算法研究
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2017-09-30
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光刻机扫描曝光模型
扫描曝光过程的抽象模型如图 1 所示 。激光器发出的脉冲光束经过光路传输系统， 从开口大小可调的狭缝中投影到工件台上， 形成投影光斑 。当曝光场前沿与光斑前沿重合时 ，扫描开始;此后曝光场匀速经过投影光斑;当曝光场后沿与光斑后沿重合时 ，扫描结束 。
光刻机剂量控制器结构
扫描投影光刻机剂量控制系统如图 2 所示 ，从准分子激光器发出的脉冲激光， 先经过底端照明光路（包括光束扩充镜组、定位 定向镜组、缩放 锥形镜组等）和可变透过率衰减片， 到达能量传感器， 再经过顶端照明光路（包括光能量均匀棒 、扫描狭缝、照明镜组等）、掩模版和投影物镜， 最终投射到硅片表面。光路中安装有一个能量传感器， 测量每个激光脉冲的能量并结合实时调节算法， 计算出下一个单脉冲能量的设定值;最后通过能量 电压转换关系将能量设定值转换成电压设定值， 以达到控制激光器单脉冲能量并保证剂量精度的目的 。
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