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IC制造工艺

消耗积分:0 | 格式:rar | 大小:692 | 2010-06-21

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刻蚀
•光刻就是在光刻胶上形成图形
•下一步就是将光刻胶上的图形通过刻蚀转移到光刻胶下面的层上
•刻蚀工艺分为湿法和干法
􀂃刻蚀的品质
•刻蚀的速率，即单位时间刻蚀的厚度
•刻蚀速率的均匀性
•选择比，即对不同材料刻蚀速率的比率
•钻刻，即对光刻胶下材料的侧向刻蚀
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