GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻 计算光刻技术提速40倍

　　GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻 计算光刻技术提速40倍

　　NVIDIA cuLitho的计算光刻库可以将计算光刻技术提速40倍。这对于半导体制造而言极大的提升了效率。甚至可以说为2nm及更先进芯片的生产提供更强大的助力。

　　计算光刻是芯片设计和制造领域中最大的计算工作负载，每年消耗数百亿CPU小时。而NVIDIA cuLitho计算光刻库利用GPU技术实现计算光刻，可以极大的降低功耗、节省时间。

　　目前台积电、***制造商阿斯麦，以及EDA巨头新思科技都已经导入NVIDIA cuLitho。

 

　　黄仁勋表示：“芯片行业是全球几乎所有其他行业的基础。光刻技术已临近物理极限，NVIDIA cuLitho的推出以及我们与 TSMC、ASML 和 Synopsys的合作，使晶圆厂能够提高产量、减少碳足迹并为2纳米及更高工艺奠定基础。”

　　cuLitho在GPU上运行，其性能比当前光刻技术工艺（通常指在硅晶圆上绘制电路）提高了40倍，能够为目前每年消耗数百亿CPU小时的大规模计算工作负载提供加速。

　　凭借这项技术，500个NVIDIA DGX H100系统即可完成原本需要4万个CPU系统才能完成的工作，它们能够同时运行计算光刻工艺的所有流程，助力降低耗电以及对环境的影响。

　　在短期内，使用cuLitho的晶圆厂每天的光掩模（芯片设计模板）产量可增加3-5倍，而耗电量可以比当前配置降低9倍。原本需要两周时间才能完成的光掩模现在可以在一夜之间完成。

　　从长远来看，cuLitho将带来更好的设计规则、更高的密度和产量以及AI驱动的光刻技术。