搜索内容
登录
光刻
7人关注
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
...展开
298
文章
33
视频
5
帖子
31152
阅读
关注标签，获取最新内容
全部
技术
资讯
资料
帖子
视频
半导体“刻蚀（Etch）”工艺技术的详解；
原创
2025-11-11
3617阅读
半导体“光刻（Photo）”工艺技术的详解；
原创
2025-11-10
1062阅读
集成电路芯片制备中的光刻和刻蚀技术
2025-10-24
1338阅读
【新启航】玻璃晶圆 TTV 厚度在光刻工艺中的反馈控制优化研究
2025-10-09
465阅读
上海光机所在全息光刻研究方面取得进展
2025-09-19
368阅读
白光干涉仪在晶圆光刻图形 3D 轮廓测量中的应用解析
2025-09-03
515阅读
1um 以下的光刻深度，凹槽深度和宽度测量
2025-08-11
480阅读
光阻去除属于什么制程
2025-07-30
1022阅读
中科院微电子所突破 EUV 光刻技术瓶颈
2025-07-22
809阅读
芯片制造的四大工艺介绍
2025-07-16
3047阅读
电子束曝光与显影工艺解读
2025-07-09
2887阅读
改善光刻图形线宽变化的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-06-30
592阅读
用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-06-18
610阅读
低含量 NMF 光刻胶剥离液和制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-06-17
593阅读
为什么光刻要用黄光?
2025-06-16
963阅读
TFT-LCD 显示屏光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-06-13
548阅读
用于叠层晶圆的光刻胶剥离液及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-06-12
422阅读
光刻工艺中的显影技术
2025-06-09
1822阅读
水平式光刻胶剥离工艺及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-06-04
456阅读
光刻胶剥离液及其制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
2025-05-29
967阅读
上一页
1
/
18
下一页
相关推荐
更多 >
IOT
海思
STM32F103C8T6
数字隔离
硬件工程师
wifi模块
MPU6050
Protues
74ls74
UHD
STC12C5A60S2
×
20
完善资料，
赚取积分
下载APP
搜索内容
