行业资讯 I 面向 TSMC InFO 技术的高级自动布线功能

描述

封装

 

在2022年底举办的 TSMC OIP 研讨会上,Cadence 资深半导体封装管理总监 John Park 先生展示了面向TSMC InFO 技术的高级自动布线功能。InFO 的全称为“集成式扇出型封装(integrated fanout)”,是一种适用于高级封装的低性能、低复杂度的技术。下图是 TSMC 演示文稿中一张介绍 InFO 的幻灯片,不难发现,InFO 有许多不同的类型。

 

封装

 

InFO 的首个应用实例出现在 2016 年,是用于移动应用的 InFO-PoP,在应用处理器晶粒上添加了一个 DRAM 封装。然后是面向 HPC 的 InFO_oS,允许将多个晶粒置于越来越大的封装中。最新的技术是 InFO_3D,允许逻辑和逻辑之间垂直堆叠,并在下方布线,以便分配电源分配网络和信号。

 

在本文中,我们不打算重申使用高级封装的优势,而是进行扩展,假设以采用最先进的节点为前提来进行设计。

 

如前文所述,高级封装和异构集成如今已成为所有半导体设计的热门话题。

 

01

布线已成为高级封装技术的主要瓶颈

 

封装

 

从上表中可以看出,如今的布线难度越来越大。左侧是倒装芯片球栅阵列 (FCBGA) 的要求,其中最多有几千个连接。RDL 信号布线将信号从相对较小的单个晶粒分散到焊球上。

 

右侧是本文将要讨论的技术——3D 异构集成晶圆级封装(3D heterogeneous integration wafer-level packaging,),简称 3DHI-WLP。这种封装通常包含多个chiplets小芯片,并可能存在数万个信号连接,因此 RDL 信号布线不仅是分配信号,同时也要处理从小芯片到小芯片(chiplet-to-chiplet)的布线。电源布线同样错综复杂,多种方法均可实现。

 

封装

 

在细节层次上,业界面临的挑战有:

 

小芯片到小芯片和扇出 RDL 布线要求

高效的引脚逃逸模式

布线通道密度

复杂过孔堆叠

提高良率的互连倒圆角

将信号和电源网络放在一起进行布线,以达到最佳密度

重用重复的模式

电源/接地过孔放置

 

为了应对这些挑战,Cadence 和 TSMC 通力合作,为 InFO 技术开发新一代——

 

自动信号布线解决方案

 

封装

 

支持高容量设计的多线程自动布线引擎
 

支持TSMC电气、物理和良率规则的布线

支持屏蔽、差分信号和倒圆角/泪滴插入(见上图)

带有重用结构的预先逃逸布线

基于分片的布线,支持复制

 

自动电源布线解决方案

 

混合和匹配 IC 样式及 BGA 样式的电源布线(条纹/轨道和平面)

锁定结构,防止在相邻区域工作时发生变更

可保存的配置,可用于后续设计

根据电源引脚的分组,自动定义形状边界样式(拼图)

 

综上所述

 

完整流程如下

 

封装

拓扑结构布线

逃逸布线

电源布线

详细布线

模式复制

倒圆角插入

最终 DRC

 

02

设计结果:大幅提升

 

封装

 

如上表所示,布线速度大大提升(100 倍)。使用多核心多线程详细布线也能使速度提高 10 倍以上。

 

 

 

 

总结

 

 

1. 当下普及高级封装技术的主要瓶颈在于布线

 

2. 信号布线(RDL/D2D)和电源布线也是如此

 

3. 需要新一代的解决方案来减少瓶颈并支持大型设计

 

4. Cadence 和TSMC已经合作开发了用于 InFO 封装技术的新一代信号和电源自动布线工具

原生大规模并行化

结合多种布线技术

便捷的多层布线引擎——Cadence Allegro 工具

支持复制

支持TSMC布线约束和 DRC 规则

 

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