EUV光刻光源核心部件研究获新进展

　　国内权威期刊《激光与光电子学进展》日前发表由中国科学院上海光学精密机械研究所团队提交的《100 kHz重复频率锡液滴靶研究》一文。

　　据本文介绍，锡液滴发生器是激光等离子型极紫外线（lpp-euv）光刻光源中最重要的核心部件之一。锡液滴目标具有高反复频率，小直径和稳定性好的特性。这篇论文显示了上海光仪器euv光源组最近对水滴发生器的研究发展，包括水滴的直径、重复频率、间隔、位置及稳定性等。

　　目前，该研究所小组研制的锡珠发生器实验装置是100 khz频率喷射的锡珠直径40米，间隔230米，工作时间约5h。在10s的短时间内，竖直和水平方向的位置分别为2米和1米左右不稳定。

　　但是现在商用产品相比，上述的指标仍有很大的差距，例如，2015年asml产品中使用液体滴杆、晚，液滴的直径27米左右、频率50 khz、液滴间隔大于1 mm，最大3 mm，液滴30 s的位置不稳定性~ 1 m，短时间内能够实现。液滴直径在20分钟以内的不稳定性为0.5米。