功率器件igbt工艺流程图解

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描述

  功率器件IGBT是Insulated Gate Bipolar Transistor的缩写。当然功率半导体元件除了IGBT之外,还有MOSFET、BIPOLAR等,这些都能用来作为半导体开关,今天单说IGBT的工艺流程。

  半导体开关

  功率器件IGBT工艺流程

  半导体开关

  1.基板

  半导体开关

  2.B+注入

  使用离子注入设备

  半导体开关

  3.绝缘膜形成

  通过CVD形成掩膜

  半导体开关

  4.掩膜用绝缘膜

  加工

  通过刻蚀和去胶处理绝缘膜

  半导体开关

  5.P+注入

  使用离子注入设备

  半导体开关

  6.形成沟槽

  通过刻蚀形成沟槽

  半导体开关

  7.形成绝缘膜

  通过CVD形成绝缘膜

  半导体开关

  8.绝缘膜加工

  通过刻蚀和去胶处理绝缘膜

  半导体开关

  9.形成Emitter

  电极

  通过溅射或蒸镀形成电极

  半导体开关

  10.形成P+FS层

  通过离子注入设备形成

  P+FS层

  半导体开关

  11.形成B+

  (Collector)

  通过离子注入设备形成B+(Collector)

  半导体开关

  12.形成

  Collector

  通过溅射或蒸镀形成 Collector

  编辑:黄飞

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