9月14日,苏大维格在投资者互动平台上表示,公司的***已向国内领先芯片企业实现销售,并向日本、韩国、以色列等国家实现出口。同时,公司向国内相关芯片***制造企业提供了位置追踪光栅尺部件。
据介绍,目前苏大维格正在重点扩大微纳米光学技术/产品。国家文件和证明书中的防伪材料、电子纸张和反射式液晶电光材料、ar/mr和ar-hud衍射材料、透明显示面板、芯片光刻定位光栅材料。可应用于板半导体,集成电路,光处理电镀设备,高端掩模,光芯片,光通信器件,光芯片等领域。
苏达维他独立微纳米光学核心制造设备——***及纳米压印的光刻设备研究开发,微纳米光学研究开发和生产制造的基础技术平台体系,微纳米光学技术新领域应用。
制程越先进,***光栅尺的周期精度要求越高,如28nm制程的***要求的光栅尺周期精度小于2nm。据介绍,苏大维格相关产品周期精度小于1nm。
2023年,苏大维格所属的行业触底,开始出现恢复的迹象。苏大维格表示,公司将以自身的技术优势为基础,提高高附加值产品的比重。同时,采取多种措施,积极推进合理控制公司各种成本和费用,降低成本,提高效益的措施。苏大维格目前订单及经营状况正常,其中设备类订单增长较快。
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