SiC MOSFET和SiC SBD的优势

描述

瑞能半导体推出SiC晶圆系列产品

分为SiC MOSFET和SiC SBD两个系列

下面将对于SiC MOSFET和SiC SBD两个系列,进行详细介绍~

01问

瑞能的SiC MOSFET系列产品有哪些优势呢?

以12mΩ/1200V为代表的瑞能第二代平面栅碳化硅 MOSFET为例,将分为以下4点为您详细解读~

Part.1

在晶圆设计上通过优化JFET宽度、源极接触区宽度等关键参数,采用更小的元胞尺寸,结合瑞能先进的SiC晶圆减薄技术,显著提高了芯片单位面积的通流能力。

Part.2

工艺上持续优化CSL(电流扩展层)和外延层掺杂浓度、采用更薄的栅极氧化层结合栅氧氮化、沟道自对准等先进工艺,进一步降低导通电阻,在几乎不增加工艺制造成本的同时,带来极低的Ron,sp(比导通电阻率)。

Part.3

瑞能SiC MOSFET的通态电阻随温度变化较小,在175℃结温时,导通阻抗仍可以保持在较低水平,该特性可以提升高温系统效率,降低器件选型余量,在较高应用环境温度下仍保持出色性能。

Part.4

瑞能SiC MOSFET命名规则标注在15V门极驱动电压下的Rdson,提供在较低门极驱动电压下工作的可能性,更容易在传统设计中直接导入替换,并且SiC MOSFET产品经过了门极-12V~+24V偏压的HTGB可靠性测试,门极直流耐压范围可达-30V~+35V,对应更大的门极驱动电压范围以及同类产品中最优秀的门极寿命(TDDB)表现。

碳化硅

02

瑞能SiC SBD产品有650V和1200V

两种耐压规格

以更小的芯片尺寸、更薄的晶圆厚度

提供最佳产品竞争力

请举例说明瑞能的SiC SBD系列产品的优势都有什么?

我将以最新一代的650V G6产品为例,为您做以下讲解!

650V G6产品着重优化了肖特基接触与PN结面积比例,有着超低Vf(标准值1.26V),而且通过外延掺杂浓度的优化以及晶圆减薄,得到了极低的通态阻抗。

经过优化设计的P+区域更好地保护了肖特基接触部分。优化后的JTE结构增强了边缘末端区域得到更高的器件耐压 BV > 800V和超低的反向漏流Ir。实现了产品性能和可靠性的完美结合。

碳化硅碳化硅

03

瑞能的SiC 晶圆系列产品包装形式有哪些?

瑞能SiC晶圆产品可以提供未切割及切割等4种形式,以满足不同客户的需求。下面我以1200V/30A SiC SBD晶圆,举例说明包装的4种方式~

01产品型号:WB30SC120AL

包装形式:未切割的整片晶圆

02产品型号:WBS30SC120AL

包装形式:晶圆切割后附在蓝膜(UV膜)

03产品型号:WBSF30SC120AL

包装形式:晶圆切割后附在蓝膜(UV膜)带框

04产品型号:WBST30SC120AL

包装形式:晶圆切割后华夫盒包装

客户也可提出订制需求

指定晶圆包装形式

SiC晶圆的广泛应用场景

审核编辑:汤梓红

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