高性能陶瓷基板具有优异的机械、热学和电学性能,在电子和半导体领域有着广泛的应用,可以支撑和固定半导体材料的基础材料。其低介电常数、高机械强度和热稳定性能优异,能够提高器件的工作性能和可靠性。在半导体领域中,它被用于制造高端功率器件、射频器件、微波器件等。
近期,第九届国际第三代半导体论坛(IFWS)&第二十届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA)于厦门召开。期间,“碳化功率器件及其封装技术分会“上,江苏博睿光电股份有限公司副总经理梁超做了”面向高功率器件的超高导热AIN陶瓷基板的研制及开发“的主题报告,分享了高性能陶瓷基板的研究进展。
高性能陶瓷基板应用涉及LED封装、激光器件(LD)散热器、第三代电力电子设备等领域。当前高集成芯片卡脖子问题主要是热管理,高性能陶瓷基板的研究方向涉及机械性能、导热性能、电气性能等,热导率提升仍然是关注的焦点,热导率提升导致抗弯强度大幅下降。
报告分享了制程优化、力学性能匀化、AlN基板表面拓扑优化改进、面向功率器件的超高韧性AlN基板的研究进展,面向功率器件的超高韧性AlN基板的最新进展,以及博睿DPC制程技术优化。其中,对于制程优化研究方面 研磨过程是导致基材的机械性能,无研磨工艺需要精确的尺寸控制,浆料配方、球磨工艺、铸造工艺等,需要协同优化。
报告指出,高性能AlN陶瓷衬底的国产化将有效推动中国功率半导体的发展;AlN衬底针对不同应用场景的定向开发促进了下游封装技术的发展;将高性能AlN陶瓷基板与金属化技术相结合,有助于开发高功率密度器件的封装要求。
审核编辑:刘清
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