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微流控光刻掩膜的制作过程涉及多个步骤,包括设计、制版、曝光、显影、刻蚀等,最终形成具有特定图形结构的掩膜版。
首先,设计阶段是制作掩膜版的关键一步。设计人员需要使用标准的CAD计算机图形软件设计微通道,并将设计图形转换为图形文件。这些设计图形随后被用于指导掩膜版的制作。
在制版阶段,设计好的图形通过直写光刻设备(如激光直写光刻机或电子束光刻机)在玻璃/石英基片上形成掩膜图形结构。这一过程可能包括在基片上涂布光刻胶,然后通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。曝光时,将设计好的掩模置于光源与光刻胶之间,用紫外光等透过掩模对光刻胶进行选择性照射,使光刻胶发生化学反应,从而改变感光部位胶的性质。
显影和刻蚀是制作过程中的重要步骤。显影过程中,通过化学处理使曝光后的光刻胶发生溶解,形成特定的图形。刻蚀步骤则是去除未被光刻胶保护的基片材料,从而形成所需的微流控结构。这一过程中,可能需要使用到湿法或干法刻蚀技术,具体方法取决于材料的性质和所需的精度。
最后,完成刻蚀后,可能还需要进行去除剩余的光刻胶和清洗工作,以确保掩膜版的清洁和准备进行下一步的使用。这一系列步骤共同构成了微流控光刻掩膜的制作过程,其中每个步骤都对最终掩膜版的质量和性能有着至关重要的影响。
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审核编辑 黄宇
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