怎么分析高速数字电路封装电源的完整性?这些技巧你学会没

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1.Pkg与PCB系统

随着人们对数据处理和运算的需求越来越高,电子产品的核心—芯片的工艺尺寸越来越小,工作的频率越来越高,目前处理器的核心频率已达Ghz,数字信号更短的上升和下降时间,也带来更高的谐波分量,数字系统是一个高频高宽带的系统。对于一块组装的PCB,无论是PCB本身,还是上面的封装(Package,Pkg),其几何结构的共振频率也基本落在这一范围。不当的电源供应系统(PDS)设计,将引起结构共振,导致电源品质的恶化,造成系统无法正常工作。

此外,由于元器件密度的增高,为降低系统功耗,系统普遍采用低电压低摆幅设计,而低电压信号更容易受到噪声干扰。这些噪声来源很广,如耦合(coupling)、串扰(Crosstalk)、电磁辐射(EMI)等,但是最大的影响则来自于电源的噪声,特别是同步切换噪声(Simultaneous switching noise,SSN)。

通常整个PDS系统除了包含电路系统外,也包含电源与地平面形成的电磁场系统。下图是一个电源传输系统的示意图。

PDS

图1 典型的电源传输系统示意图

2.Pkg与PCB系统的测量

一般在探讨地弹噪声(GBN)时,通常只单纯考虑PCB,且测量其S参数|S21|来表示GBN大小的依据。Port1代表SSN激励源的位置,也即PCB上主动IC的位置,而较小的|S21|代表较好的PDS设计和较小的GBN。然而一般噪声从IC上产生,通过Pkg的电源系统、再通过基板Via和封装上的锡球的连接,到达PCB的电源系统(如图1)。所以不能只单纯考虑PCB或Pkg,必须把两者结合起来,才能正确描述GBN在高速数字系统中的行为。

为此,我们设计一个PDS结构(如图2),来代表Pkg安装在PCB上的电源系统。

PDS图2 BGA封装安装在PCB上的结构和截面示意图

使用网络分析仪(HP8510C)结合探针台(Microtechprobe station),量测此结构之S参数,从50Mhz到5Ghz。测量上,使用两个450um-pitch的GS探针,接到Pkg信号层的Powerring和Ground ring上。这个测量结构如图3。

PDS

图3 BGA封装安装在PCB上的结构测量示意图

Pkg+PCB结构量测S参数的结果如图4所示,同时我们也做了单一Pkg和 PCB的量测结果,通过对比来了解整个PDS系统和单一Pkg和PCB之间的差别。

PDS

图4 BGA封装安装在PCB上的量测结果

从图4的测量结果,我们可以考到三种结构的GBN行为有很大的差异。首先考虑只有单一Pkg时的S参数,在1.3Ghz之前的行为像一个电容,在1.5Ghz后才有共振模态产生;考虑单一PCB,在0.5Ghz后就有共振模态产生,像0.73Ghz(TM01)、0.92Ghz(TM10)、1.17Ghz(TM11),其GBN行为比单一Pkg更糟。最后,考虑Pkg结合PCB,可以看到在1.5Ghz之前,比单一Pkg多了三个共振点,这些噪声共振来自于PCB,通过锡球、Via等耦合到Pkg的电源上,这会使Pkg里的IC受噪声影响更严重,这跟只考虑单一Pkg或PCB时有很大不同。

3.去耦电容对电源噪声的影响

对于电源平面噪声传统的抑制方法是使用那个耦合电容,对于去耦电容的使用已有很多研究,但电容大小、位置、以及个数基本还是基于经验法则。

去耦电容的理想位置

为了研究去耦电容位置PDS的影响,我们用上述Pkg+PCB结构,分别在Pkg和PCB上加去耦电容或两者都加上去耦电容,通过量测|S21|来研究去耦电容的理想摆放位置。

图5 去耦电容安装在Pkg和PCB上

如图5所示,我们摆放电容的位置分三种情况,一是在Pkg上加52颗,二是在PCB上加63颗,三是在Pkg和PCB上同时各放置52和63颗,电容值大小为100nF, ESR、ESL分别为0.04ohm、0.63nH。量测结果如图6。

PDS图6 加去耦电容于不同位置的|S21|比较图

首先,把低频到5Ghz分成三个阶段,首先,开始低频到500Mhz左右,不管在Pkg或PCB上加去耦电容,相比没有加电容,都可以大大降低结构阻抗,减少GBN干扰。第二,对于0.5Ghz~2Ghz,在Pkg上和同时在Pkg与PCB上加去耦电容,对噪声抑制效果差不多。可是如果只在PCB上加电容,可以看到在800Mhz附近多了一个共振点,这比没有加电容时更糟。所以我们只在PCB上加电容时要特别注意,可能加上电容后电源噪声更严重。第三,从2Ghz~5Ghz,三种加电容方式与没加电容相比,效果并不明显,因为此阶段超过了电容本身的共振频率,由于电容ESL的影响,随着频率升高,耦合电容逐渐失去作用,对较高频的噪声失去抑制效果。

去耦电容ESR的影响

在Pkg结合PCB结构上,放置12颗去耦电容,同时改变去耦电容的ESR,模拟结果如图7所示。可以发现,当ESR值越来越大,会将极点铲平,同时零点也被填平,使S21成为较为平坦的曲线。

PDS图7 去耦电容的ESR对|S21|的影响

去耦电容ESL的影响

在Pkg结合PCB结构上,放置12颗去耦电容,同时改变去耦电容的ESL,模拟结果如图8所示。从图中我们发现,ESL越大,共振点振幅越大,且有往低频移动的趋势,对噪声的抑制能力越低。

PDS图8 去耦电容的ESL对|S21|的影响

去耦电容数量的影响

由前面的结果知道,电容放在封装上效果更好,所以对电容数量的探讨,以在Pkg上为主。在前述Pkg+PCB的结构上,Pkg上电容的放置方式如图9,模拟结果如图10。

PDS图9 封装上电容的放置位置

PDS图10 电容数量对|S21|的影响

从测量结果可知,加4和8颗时,在0~200Mhz,能有效压低|S21|,但在400Mhz附近产生新的共振点,而把之后的共振点往高频移动。当加入12~52颗后,同样压低低频|S21|,且把400Mhz附近的共振点大大消减,高频共振点向高频移动,且振幅大为缩减。

随着电容数量增加,对噪声的抑制更好,从4~8颗的300Mhz,提升到1.2Ghz(52颗),所以增加电容数量,有助于对提高电源的噪声抑制能力。

去耦电容容值的影响

在Pkg和PCB的组合结构上,放置不同容值的电容,模拟结果如图11。

对加入100nF和100pF做比较,0~300Mhz间,100n大电容有较好的抑制效果;500~800Mhz,100p小电容有较好的效果;而加100n电容,会跟整个系统结构在400Mz产生共振;当使用100n+100p,200~600Mhz,比单纯使用100n和100p差,而更低频或更高频也没有单一容值好;当使用100n+1n+100p三种容值时,产生了更多共振点,在电子系统中要特别小心,如果电路产生的噪声刚好在共振频率点,则噪声被放大,对信号产生影响或辐射。

所以对电容容值的选择,应根据要抑制的频段来决定,频段决定后根据电容的共振点选择电容,越低的电容ESL和ESR越好。

 PDS

图11 混合不同容值电容的模拟结果

板层厚度的影响

首先,固定PCB电源与地平面之间的距离为0.7mm,改变Pkg电源层厚度依次为1.6mm、0.8mm、0.4mm、0.15mm,结果如图12所示;当Pkg电源层厚度越来越高,第一个零点向低频移动;从前面结论知道,2Ghz前的噪声来自PCB,从结果来看PCB耦合上来的噪声也变大了,而2Ghz以后主要受封装影响,可以看到|S21|也随厚度而变大,所以Pkg电源平面的厚度对S参数影响是很大的。

PDS

图12 不同Pkg电源层厚度对|S21|的影响

接着,我们固定Pkg厚度为0.15mm,分别改变PCB厚度为0.15mm、0.4mm、0.8mm、1.6mm,PCB厚度对S参数的影响结果如图13所示,可以看到PCB电源层厚度对整体趋势影响并不大,只有低频部分少有差异,厚度增加第一个零点小高频移动,高频部分只稍有差异。

PDS图13 不同PCB电源层厚度对|S21|的影响

电容摆放距离的影响

我们知道去耦电容的位置距离噪声源越近越好,因为能减少电容到噪声源之间的电感值,让电容更快的吸收突波,降低噪声,达到稳定电压的作用。同样降低电源层厚度能减小电源平面寄生电感,也能起到相同作用。在模拟上我们改变电容在封装上和测试点之间的距离,分别为1.7cm和0.2cm,Pkg和PCB电源层厚度分两种情况,第一种Pkg 0.15mm和PCB 0.7mm,第二种情况,Pkg1.6mm和PCB 0.7mm,电容100nF、ESR 0.04ohm、ESL 0.63nH。

图14 电容与测试点的距离

PDS图15 不同电容与测试点的距离|S21|模拟结果

由模拟结果得知,当因为封装结构或绕线问题,不能把电容放置在噪声源附近是,我们可以藉由减低Pkg电源层厚度,减少噪声的影响。

4.结 论

最后,我们对高速数字电路如何中抑制噪声做一总结。首先,去耦电容的理想位置是放置在Pkg上;ESR增大虽能把极点铲平,但也会导致共振频率深度变浅,电容充放电时间增大,会失去降低电源平面阻抗的功能;电容ESL增大会加快共振点后阻抗上升速度,所以ESL越低越好;电容数量越多越好,电容墙可以提高隔离效果;电容容值的选择,需要根据噪声频段来选择,尽量不要多容值混用,虽然这样能增加噪声抑制的频宽,但也会增加共振点数量,如果噪声刚好落在共振点上,叠加的效果可能会更严重;PCB电源平面厚度对Pkg上的S参数几乎没有影响,但在低频,Pkg上板层厚度却会影响PCB耦合上来的噪声大小,Pkg板层越薄耦合上来的噪声越小;高频部分,主要受封装影响,Pkg板层越薄,|S21|值越小。

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