通常,我们将芯片的生产过程划分为前端制程和后端制程两大阶段,其中前端制程专注于芯片的制造,而后端制程则关注于芯片的封装。进一步细分,前端制程还可以被分为前端工艺(简称FEOL)与后端工艺(简称BEOL)。简而言之,前端工艺主要负责制造如晶体管这样的有源器件,而后端工艺则侧重于实现这些器件之间通过多层布线进行的互连。为了更好地理解这一过程,可以参考下面的图示进行对照。

从图示中可以理解到,前端工艺扮演着基石的角色,通常处于构造的最底部;而后端工艺则是在此基础上进行进一步的构建和扩展。FEOL(前端工艺)与BEOL(后端工艺)之间通过MOL(中道工艺层)实现连接。MOL主要由精细的金属构造组成,它们充当晶体管源极、漏极以及栅极的接触点,并将这些接触点与BEOL中的局部互联层连接起来。
FEOL制造工艺的基本步骤

BEOL制造工艺的基本步骤

本文内容源于【半导体工艺与设备】
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