这款 –20V、64mΩ、P 沟道 FemtoFET™ MOSFET 经过设计和优化,可在许多手持式和移动应用中最大限度地减少占用空间。该技术能够取代标准小信号 MOSFET,同时大幅减小基底面尺寸。集成的 10kΩ 箝位电阻器 (RC) 允许栅极电压 (VGS) 在高于 –6V 的最大内部栅极氧化值 (VGS) 上运行,具体取决于占空比。当 VGS 增加到 –6V 以上时,通过二极管的栅极泄漏 (IGSS) 会增加。
*附件:CSD25501F3 –20V P 沟道 FemtoFET™ MOSFET 数据表.pdf
特性
- 低导通电阻
- 超低 Qg 和 Qgd
- 超小尺寸
- 低调
- 集成 ESD 保护二极管
- 无铅和无卤素
- 符合 RoHS 规范
参数

方框图

1. 产品特点
- 低导通电阻:64mΩ(V GS = –4.5V)
- 超低栅极电荷:Q g = 1.02nC(V GS = –4.5V)
- 超小封装:0.7mm × 0.6mm LGA封装,最大高度0.22mm
- 集成ESD保护二极管
- 无铅和无卤素
- RoHS合规
2. 应用领域
3. 电气特性

- 最大漏源电压:V DS = –20V
- 最大栅源电压:V GS = –20V
- 连续漏极电流:I D = –3.6A
- 脉冲漏极电流:I DM = –13.6A(脉冲持续时间≤100μs,占空比≤1%)
- 功率耗散:P D = 500mW
- 阈值电压:V GS(th) = –0.75V
4. 热信息
- 热阻:
- R θJA = 90°C/W(安装在FR4材料上,1in²铜面积)
- R θJA = 255°C/W(安装在FR4材料上,最小铜面积)
5. 封装与尺寸

- 封装类型:LGA(Land Grid Array)
- 尺寸:0.7mm × 0.6mm × 0.22mm(最大高度)
6. 栅极电荷与电容
- 栅极总电荷:Q g = 1.02nC(V GS = –4.5V)
- 栅极到漏极电荷:Q gd = 0.09nC
- 输入电容:C iss = 295pF(V GS = 0V, V DS = –10V, f = 100kHz)
- 输出电容:C oss = 70pF
- 反向传输电容:C rss = 4.1pF
7. 开关特性
- 开启延迟时间:t d(on) = 474ns(V DS = –10V, V GS = –4.5V, I DS = –0.4A)
- 上升时间:t r = 428ns
- 关断延迟时间:t d(off) = 1154ns
- 下降时间:t f = 945ns
8. 二极管特性
- 二极管正向电压:V SD = –0.73V至–0.95V(I SD = –0.4A, V GS = 0V)
- 反向恢复电荷:Q rr = 3.0nC(V DS = –10V, I F = –0.4A, di/dt = 200A/μs)
- 反向恢复时间:t rr = 7.4ns
9. 安全操作区域
- 提供了最大漏极电流与温度的关系图,以及最大安全操作区域图。
CSD25501F3是一款专为手持和移动设备优化的P沟道MOSFET,具有低导通电阻、超低栅极电荷和超小封装等特点,适用于负载开关和电池应用等领域。