Micro OLED 阳极像素定义层制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量

 

引言

 

Micro OLED 作为新型显示技术，在微型显示领域极具潜力。其中，阳极像素定义层的制备直接影响器件性能与显示效果，而光刻图形的精准测量是确保制备质量的关键。白光干涉仪凭借独特优势，为光刻图形测量提供了可靠手段。

 

Micro OLED 阳极像素定义层制备方法

 

传统光刻工艺

 

传统 Micro OLED 阳极像素定义层制备常采用光刻剥离工艺。首先在基板上沉积金属层作为阳极材料，接着旋涂光刻胶，通过掩模版曝光使光刻胶发生光化学反应，随后进行显影，去除曝光或未曝光部分的光刻胶。最后通过剥离工艺，将未被光刻胶保护的金属层去除，从而形成阳极像素定义层。但此方法存在缺陷，光刻胶剥离过程中易残留杂质，影响像素电极的导电性和稳定性，且工艺复杂，成本较高 。

 

新型制备技术

 

为克服传统工艺弊端，新型制备技术不断涌现。如喷墨打印技术，利用高精度喷头将阳极材料墨水直接喷射到基板指定位置，形成像素定义层图案。该技术可实现材料按需分配，减少材料浪费，且能精确控制图案尺寸，适合制备高分辨率 Micro OLED 阳极像素定义层。此外，纳米压印技术也备受关注，通过将带有图案的模板压印在涂有软质材料的基板上，实现图案的复制转移，可快速制备大面积、高精度的阳极像素定义层，有效提升生产效率。

 

白光干涉仪在光刻图形测量中的应用

 

测量原理

 

白光干涉仪基于白光干涉原理，将白光分为两束，一束照射待测光刻图形表面反射回来，另一束作为参考光，两束光相遇产生干涉。通过分析干涉条纹，依据光程差与表面高度的关系，可获取光刻图形的高度、轮廓等参数。

 

测量优势

 

白光干涉仪具有高精度、非接触的特点，测量精度可达纳米级，不会对脆弱的光刻图形造成损伤。同时，测量速度快，能够实时在线检测，配合专业软件还能对测量数据进行可视化处理，直观呈现光刻图形质量。

 

实际应用

 

在 Micro OLED 阳极像素定义层制备中，白光干涉仪可用于测量光刻胶图案的高度、线宽，以及阳极金属层图形的平整度等关键参数，确保制备的阳极像素定义层符合设计要求，为提升 Micro OLED 显示性能提供保障。

 

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实际案例

 

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2，毫米级视野，实现5nm-有机油膜厚度扫描

 

3，卓越的“高深宽比”测量能力，实现光刻图形凹槽深度和开口宽度测量。

 

审核编辑 黄宇