白光干涉仪在半导体的应用

型号: SuperView W1

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SuperViewW1白光干涉仪可测2D/3D轮廓、粗糙度等,共300余种特征参数,在半导体、精密加工及微纳材料等领域可得到广泛应用,能对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。

 

白光干涉仪在半导体的应用

硅晶圆的粗糙度检测在半导体产业中,硅晶圆的制备质量直接关系着晶圆IC芯片的制造质量,而硅晶圆的制备,要经过十数道工序,才能将一根硅棒制成一片片光滑如镜面的抛光硅晶圆。

 

制备好的抛光硅晶圆表面轮廓起伏已在数纳米以内,其表面粗糙度在0.5nm左右,由于其粗糙度精度已到亚纳米量级,而在此量级上,接触式轮廓仪和一般的非接触式仪器均无法满足检测要求,只有结合了光学干涉原理和精密扫描模块的白光干涉仪才适用。

 

SuperViewW1半导体白光干涉仪示例图1

 

从硅晶圆的制备到晶圆IC的制造,每一步都对工艺流程的质量有着严格的管控要求,由各式各样的检测仪器共同组成了产品质量监控的守门员,而在这之中,作为产品表面质量检测仪器的SuperViewW1白光干涉仪,以其高检测精度和高重复性,发挥着重要的作用。

 

产品型号:SuperView W1系列

产品名称:光学3D表面轮廓仪

影像系统:1024×1024

光学ZOOM:0.5×,(0.75×,1×可选)

干涉物镜:10×,(2.5×,5×,20×,50×,100×可选)

XY平台:尺寸320×200mm,行程140×110mm,电动、手动同时具备,均为光栅闭环反馈

Z轴行程:100mm,电动

Z向扫描范围:10mm

Z向分辨率:0.1nm

水平调整:±5°手动

粗糙度RMS重复性:0.005nm

台阶高测量:准确度0.3%,重复性0.08% 1σ

主要特点:非接触式无损检测,一键分析、测量速度快、效率高

生产企业:深圳市中图仪器股份有限公司

注释:更多详细产品信息,请联系我们获取