DNP突破超2nm EUV光刻光掩模技术

日本首台EUV光刻机就位

美投资8.25亿美元建设NSTC关键设施,重点发展EUV光刻技术

美光预测AI需求将大幅增长,计划2025年投产EUV DRAM

ASML CEO傅恪礼:亚洲将继续主导芯片行业

新型EUVL技术问世，超越半导体制造标准线

日本大学研发出新极紫外(EUV)光刻技术

一种无透镜成像的新方法

半导体产业竞速:Hyper-NA EUV光刻机挑战与机遇并存

ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机，将芯片密度限制再缩小

替代EUV光刻，新方案公布！

中国半导体产业的十大技术“瓶颈”解析

ASML创下新的EUV芯片制造密度记录，提出Hyper-NA的激进方案

台积电魏哲家与ASML高层会面，是否有意购买高数值孔径极紫外光机台？

美光将在日本广岛建DRAM芯片制造工厂，2027年底或将竣工

美光宣布将在日本广岛建设DRAM工厂

Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意，未采用高NA EUV光刻机

后门！ASML可远程锁光刻机！

ASML考虑推出通用EUV光刻平台

英特尔竞购High-NA EUV设备，台积电决定回避