目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV

ASML的极紫外光刻机（EUV），这个是当前世界顶级的光刻机设备。 在芯片加工的时候，

美国华尔街日报7月19日报道，美国政府正在努力阻止荷兰ASML EUV光刻机（极紫外光

大的需求令可以说是史上的天量，三星英特尔急了。 因为目前全球能够提供最先进极紫外光刻机的只有荷兰ASML一家，在刚刚过去的2020年当中，ASM

订单，至少有13台。 阿斯麦是目前全球唯一一家能供应极紫外光刻机的厂商，台积电、三星等厂商所需要的极

下，都将全力支持。 IT之家昨日报道，ASML 在第三届中国国际进口博览会上展示了先进的 DUV 光刻机。据了解，该产品可生产 7nm 及以上制程芯片。 DUV ：深紫外线（Deep

顶级光刻机有多难搞？ASML的光刻机，光一个零件他就调整了10年！拿荷兰最新极

据国外媒体报道，半导体行业光刻系统供应商ASML（阿斯麦）去年交付了26台极紫外光刻机

据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。