光刻机分辨率
如何提高光刻机的NA值
数值孔径,是影响分辨率(R),焦深(DOF)的重要参数,公式为: R=k1⋅λ/NA DOF=k2⋅λ/NA2 其中,λ为波长,k1,k2均为工艺因子。从公式可以看出:提高NA可以提升光刻
2025-01-20 09:44:18
峰峰值分辨率与有效分辨率的区别资料下载
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陈文博
2021-04-16 08:54:58
基于复合的深度神经网络的图像超分辨率重建
针对现有单图像超分辨率重建时主要采用的简单链式堆叠的单一网络存在层间联系弱、网络关注点单一以及分层特征不能充分利用等问题,提出了一种复合的深度神经网络用于提升图像超分辨重建性能。该方法首先
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佚名
2021-04-13 10:35:43
图像超分辨率重建算法的多尺度反向投影
为解决当前主流图像超分辨率重建算法对低分辨率图像中细节信息利用不够充分的问题,提出一种基于多尺度反向投影的图像超分辨率重建算法。使用多个不同尺度
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佚名
2021-03-30 11:28:12
使用单幅图像超分辨率算法解决SR资源不足和抗噪性差的问题说明
针对单幅图像超分辨率(SR)复原样本资源不足和抗噪性差的问题,提出一种基于结构自相似和形变块特征的单幅图像超分辨率算法。首先,该方法通过构建尺度模型,尽可能地扩展搜索空间,克服单幅图像超
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佚名
2019-11-05 11:57:33
光刻机是干什么用的
!光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上,如此便可
光刻机工艺的原理及设备
是有关系的,有公式可以计算: 光刻机分辨率=k1*λ/NA (k1是常数,不同的光刻机k1不同,λ指的是光源波长,NA是物镜的数值孔径,所以
ASML研发新一代EUV光刻机 分辨率能提升70%左右
在EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机
2020-03-17 09:13:48
ASML研发第二代EUV光刻机的微缩分辨率、套准精度提升了70%
据韩媒报道称,ASML正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA透镜,通过提升透镜规格使得
2019-08-07 11:24:39
换一换
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