近日，深圳稳顶聚芯技术有限公司（简称“稳顶聚芯”）宣布，其自主研发的首台国产高精度步进式光刻机已成功出厂，标志着我国在半导体核心装备领域取得新进展。 此次稳顶聚芯出厂的步进式

光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影

ASML的极紫外光刻机（EUV），这个是当前世界顶级的光刻机设备。 在芯片加工的时候，光刻机是用一系列光源能量和形状控制手段，通过带有电路图的掩

众所周知，光刻机一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就是ASML公司了。

刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀

不会有我们现在的手机、电脑了。 光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影

芯片是半导体中的积分器，目前芯片的利用率很高，要想在技术领域有所突破，就必须在芯片领域发展。在芯片制造中，最受关注的是光刻机的发展。到目前为止，我国光刻机制造领域还比较缺乏机械。我们的