光学光刻
基于双光子光刻的光学封装方法
双光子光刻技术能够精确制备三维结构,并将其精准集成在光电芯片上,能够在光纤-芯片以及芯片-芯片之间,构建大带宽、低损耗的光信号链路,实现光信号的高效互连,降低封装过程的对准精度,给光学芯片的封装过程带来了全新的机遇。
2023-11-06 14:36:30
光学轮廓仪有着以下几大技术特点
光学轮廓仪利用光学原理来测量物体表面形状和轮廓,避免了对被测物体的损伤,同时具有高分辨率的测量能力,尤其适用于精密、易损的材料和工件。
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szzhongtu5
2025-05-21 14:51:30
四通道光学耦合隔离器芯片PS2801-4
PS2801-4是一个四通道光学耦合隔离器,每个通道由一个红外发射二极管和一个NPN硅光电晶体管光学耦合而成。
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soulxiayu
2021-05-20 16:28:50
基于DSP的高性能光学稳定平台控制系统
光学稳定平台的发展十分迅速,稳定的伺服控制系统是其主要功能。控制接口电路是其实现传感器与控制实现的桥梁。本论文提出系统对接口电路的设计需求。重点阐述了系统的硬件电路实现,包括电路功能的设计,芯片的选择,具体的电路设计等最后论述了该控制接口电路的应用范围。
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佚名
2021-05-17 14:30:59
深紫外光刻复杂照明光学系统设计
。照明系统是光刻机的重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统
2023-07-17 11:02:38
光刻掩膜版测温仪,光刻机曝光光学系统测温仪
1970-01-01 08:00:00 至 1970-01-01 08:00:00
计算光刻技术的发展
Technology,RET)的延伸,其关键技术主要包括光学成像物理仿真、光学邻近效应校正 (Optical Proximity Correction,OPC)、光源-掩模协同优化 (Source-Mask Opt
2022-10-26 15:46:22
茂莱光学成功实现光刻机核心光学器件的部分国产替代
中国的上海微电子。随着工艺制程的演进和分辨率的可靠性等要求越来越高,光刻机制造难度也越来越大,对配套的精密光学器件也提出了更高的要求。 近年来,受益于本土半导体产业爆发,不少
2020-09-02 17:41:00
光刻机工艺的原理及设备
就是研发NA 0.5的光学镜片,这是EUV光刻机未来进一步提升分辨率的关键,不过高NA的EUV光刻机至少是2025-2030年的事了,还早着呢,
换一换
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