锁相环频率合成器的种类有哪些?都具有什么特点?
锁相环频率合成器的应用使得无线终端可在基站很小的频率间隔内快速地切换频率和相位, 满足频率分辨率高、 频率转换时间短、 转换时信号相位连续、 调频电路频率稳定性高及相对带宽较宽的要求。
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好的,锁相环(PLL)频率合成器是实现高频、高精度频率信号生成的核心技术,广泛应用于通信、雷达、仪器仪表等领域。根据其分频和控制方式的不同,主要有以下几种主要类型及其特点:
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整数 N PLL 频率合成器:
- 原理: 最基础的 PLL 结构。压控振荡器(VCO)的输出频率(fout)经过一个整数分频器(÷N) 后,与一个非常稳定的参考频率(fref)在鉴相器(PD/PFD)中进行比较。环路通过调节 VCO 控制电压使两者相位/频率差为零,从而锁定输出频率 fout = N fref*。
- 特点:
- 结构简单: 逻辑清晰,实现成本相对较低。
- 分辨率等于参考频率: 输出频率步进最小为 fref。要提高频率分辨率(减小步进),必须降低 fref。但是...
- 环路带宽与参考频率矛盾: 参考频率 fref 决定了相位比较速率,也限制了环路带宽(Loop Bandwidth)。窄的环路带宽有利于抑制 VCO 噪声,但会降低锁定速度和对参考噪声的抑制能力。提高频率分辨率要求低的 fref(窄环路带宽),但这会牺牲锁定速度和抑制 VCO 噪声的能力。
- 整数边界杂散: 在输出频谱中,在距离载波 N fref ± fref* 等处存在参考杂散(参考频率的谐波)。
- 锁定时间: 相对较快(相比于某些小数分频架构)。
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分数 N PLL 频率合成器:
- 原理: 在整数 N 分频器的基础上,分频比 N 可以在两个或更多个整数值之间动态切换(平均而言是一个分数值)。例如,在 M 个参考周期内,让分频器以 N 分频运行 M-K 次,以 N+1 分频运行 K 次,则平均分频比为 Nfrac = N + K/M,输出频率 fout = Nfrac fref = (N + K/M) fref。
- 特点:
- 高频率分辨率: 频率分辨率由分数 K/M 决定。可以远小于参考频率 fref(如 fres = fref / M)。在保持较高 fref 的同时实现了精细的频率步进。
- 解决了环路带宽与参考频率的矛盾: 可以在使用较高 fref(从而获得较宽环路带宽、更快锁定速度、更好参考噪声抑制)的同时,实现精细的频率控制。
- 分数杂散: 动态切换分频比会引入分数杂散(Fractional Spurs),这是该架构的主要问题。杂散出现在距离载波 ±(n * fref / M)(n为整数)处。分数杂散的幅度通常大于整数边界杂散。
- 相位噪声: 在环内补偿技术(见下)出现前,带内相位噪声可能比整数 N 架构更差。
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Σ-Δ 调制分数 N PLL 频率合成器:
- 原理: 在基础分数 N 架构中,使用Σ-Δ 调制器(SDM) 来控制分频比的切换。SDM 将低位的分数控制字转换成一个位宽更大、高速变化的比特流,动态地控制分频器在多个整数分频值之间切换(如 N, N±1, N±2 等)。
- 特点:
- 高频分辨率: 继承了分数 N 架构的高分辨率优势。
- 噪声整形: SDM 的关键作用是对分频比切换引入的量化噪声进行整形。它将量化噪声的能量从低频推向高频区域。
- 抑制分数杂散: 通过噪声整形,SDM 将原本集中在离散频率点的分数杂散能量分散开,并推向更高的频率偏移处。环路滤波器(LPF)可以有效滤除这些高频噪声。
- 改善了带内相位噪声: 使用高阶 SDM,可以在感兴趣的信号带宽内获得优异的带内相位噪声性能(接近参考源的噪声水平)。
- 增加了设计复杂性: SDM 的设计(阶数、稳定性)需要仔细考虑。SDM 本身会贡献一些噪声,高阶 SDM 在高偏移频率可能产生量化噪声峰值。
- 锁定时间: 可能比整数 N 稍慢(主要受 SDM 收敛和环路带宽限制),但仍比固定窄带宽的整数 N 要快很多。
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双模预分频(多模分频)PLL 频率合成器:
- 原理: 主要用于在整数 N 架构中实现高频输出。它采用一个高速的双模预分频器(如 ÷P/P+1)配合一个低速的可编程计数器(A计数器)和吞咽计数器(S计数器)来实现一个总的分频比 N = PS + A*。
- 特点:
- 支持高频 VCO: 双模预分频器工作在很高的频率(如 GHz 范围),而后面的计数分频器工作在较低频率,降低了高速可编程分频器的设计难度。
- 整数分频: 本质是整数 N 结构的一种扩展实现方式,因此也继承了整数分频的优缺点(分辨率 = fref,环路带宽与参考频率的矛盾等)。
- 广泛应用于整数 N 合成器: 是现代 GHz 级射频整数 N 合成器的常用技术(如芯片中的 prescaler)。也可用于(或稍作改动用于)其他架构的后端高速分频部分。
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多环 PLL 频率合成器:
- 原理: 使用两个或多个独立的 PLL 环进行级联或混频组合。例如:一个环生成较低的、分辨率高的频率 A,另一个环生成较高的频率 B,然后通过混频器将 A 和 B 混频(相加或相减)得到最终的高频输出信号 C = B ± A。
- 特点:
- 超高频输出: 可以生成远超单一 PLL 工作范围的输出频率。
- 高分辨率: 由低频环(如小数分频环)保证精细的频率步进。
- 优异的相位噪声和杂散性能: 各环可以独立优化。例如,生成高频的环可以用较高 fref 获得宽环路带宽抑制 VCO 噪声;生成低频精细步进的环可以独立优化其相位噪声和杂散。
- 复杂度高、成本高、体积大: 需要多个 VCO、PLL、混频器、隔离器等组件。设计、调试和维护更复杂。混频器和隔离不良会引入新的杂散和隔离问题(如 LO 泄露)。
- 较长的锁定时间: 多个环需要逐一锁定或协调锁定。
总结:
- 整数 N: 简单、低成本、速度快,但频率分辨率与环路带宽性能矛盾(窄带宽时分辨率好但速度慢噪声差,宽带宽时反之)。
- 分数 N / Σ-Δ 分数 N: 解决了分辨率与环路带宽的矛盾,实现高分辨率 同时拥有 宽环路带宽(快锁定,好噪声抑制)。基础分数 N 杂散严重;Σ-Δ 分数 N 是主流,通过噪声整形显著抑制了杂散,实现优秀的近载波相位噪声。
- 双模预分频: 是实现高频整数(或分数)N 合成器中后端高速分频的关键技术。
- 多环: 用于追求极致性能(超高频、超低相位噪声、超低杂散、超高分辨率),但代价是极高的复杂性、成本和尺寸。
在实际应用中,尤其是在高度集成的射频芯片中,Σ-Δ 调制分数 N PLL 因其在性能、分辨率和实现复杂性之间的优良平衡,已成为最主流的频率合成器架构。
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