泽攸科技ZML10A是一款创新的桌面级无掩膜光刻设备，专为高效、精准的微纳加工需求设计。该设备采用高功率、高均匀度的LED光源，并结合先进的DLP技术，实现了黄光或绿光引导曝光功能，真正做到“所见即所得”，极大提升了操作便捷性和工艺可控性。其独特的光路结构和高精度直线电机位移台确保了卓越的曝光精度和重复定位能力，同时配备CCD相机逐场自动对焦系统，进一步优化了成像质量和工艺稳定性。设备支持电动物镜切换和激光主动对焦功能，能够灵活应对不同应用场景的需求。其紧凑的桌面小型化设计不仅节省空间，还便于在实验室或生产环境中部署。此外，ZML10A配备了直观易用的软件界面，大幅降低了操作门槛，即使是初学者也能快速上手。无论是超材料结构、电极图案还是微流控芯片等复杂微纳结构的制备，ZML10A都能提供可靠的支持，是科研工作者和工业用户的理想选择。
• 技术特点
▲ 桌面小型化
▲ 高功率、高均匀度LED刻写光源
▲ 绿光引导曝光，所见即所得
▲ CCD相机逐场图像自动对焦
▲ 高精度直线电机位移台
▲ 用户友好，易于操作的软件界面
• 光路原理结构图
• 主要指标
关键技术指标 | |||
紫外光源中心波长 | 405 nm | 单次写场曝光面积 | 0.16*0.16mm (@0.5um) |
曝光均匀度 | 90%以上 | 刻写速率 | 80mm^2/min(1um特征线宽) |
最小特征线宽 | 0.5um | 支持图片格式 | DXF、GDS、bmp、png等 |
配置 | 基础版 | 专业版 | |
光源 | 强光LED:405nm | ||
DMD芯片 | DLP6500 | ||
单场曝光面积 | 0.16*0.16mm (@0.5um)、0.4*0.4mm(@0.7um) 0.8*0.8mm (@1um)、1.6*1.6mm (@2um) | ||
相机 | 大靶面显微相机（支持尺寸测量） | ||
最小等间隔线宽 | 0.8um | 0.5um | |
拼接精度 | ±0.3um | ±0.3um | |
套刻精度 | ±0.5um | ±0.5um | |
刻写速度 | 20mm^2/min(1um特征线宽) | 80mm^2/min(1um特征线宽) | |
运动台 | 高精度直线电机(重复定位精度±0.25um) | 高精度直线电机(重复定位精度±0.25um) | |
物镜转换器 | 手动物镜切换 | 电动物镜切换 | |
对焦模组 | CCD图像自动对焦 | 激光主动对焦 | |
支持硅片尺寸 | 4inch | 4 inch / 8inch | |
样品厚度 | 0-10mm | 0-10mm | |
• 应用案例
▲ 微流控芯片
▲ DMD紫外光刻实现套刻功能
▲ 碲纳米网格刻蚀后套刻电极
▲ 灰度光刻菲涅尔透镜【3D灰度光刻实现菲涅尔透镜，从扫面电镜的截面图中可以看出台阶连续变化】
▲ 二维材料电极【蒸镀并剥离后的二维材料电极，蒸镀电极为Ti/Au/Ti(总共12nm)】
▲ DMD紫外光与电子束联合光刻【使用的机型为ZML10A 和 ZEL304G】
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