搜索内容
登录
刻蚀
2人关注
刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻 ［1］ 相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。
...展开
188
文章
10
视频
0
帖子
13155
阅读
关注标签，获取最新内容
全部
技术
资讯
资料
视频
全球封装技术向先进封装迈进的转变
2023-08-11
806阅读
***产业链厂商分析 国产半导体设备厂商迎新机遇
2023-08-09
2110阅读
刻蚀分为哪两种方式 刻蚀的目的和原理
2023-08-01
8416阅读
刻蚀工艺流程和步骤 酸性蚀刻和碱性蚀刻的区别
2023-07-28
9031阅读
净利增长均超100%，设备依旧“凶猛”
2023-07-17
537阅读
一种孔径小于10纳米的固态纳米孔制备新技术
2023-07-04
363阅读
半导体前端工艺之沉积工艺
2023-06-29
1577阅读
什么是各向异性刻蚀？
2023-08-22
1190阅读
半导体图案化工艺流程之刻蚀(一)
2023-06-26
1632阅读
浅谈封装开封技术
2023-06-25
938阅读
Aston 质谱仪对小开口区域的蚀刻有更高的灵敏度
2023-06-20
514阅读
半导体八大工艺之刻蚀工艺-干法刻蚀
2023-06-20
6899阅读
电子特气国产替代有望加速
2023-06-19
895阅读
半导体前端工艺：刻蚀——有选择性地刻蚀材料，以创建所需图形
2023-06-15
2091阅读
东京电子成功开发400层堆叠3D NAND闪存技术
2023-06-12
1140阅读
晶片湿法刻蚀方法
2023-06-05
3164阅读
金属湿法刻蚀
2023-05-29
4114阅读
离子注入技术的优点和应用
2023-05-08
3242阅读
详解电池片全工序工艺
2023-05-06
5579阅读
半导体刻蚀工艺简述
2023-04-21
2452阅读
上一页
5
/
10
下一页
相关推荐
更多 >
Arduino
28nm
FinFET
20nm
村田
TI公司
罗姆
工业物联网
金升阳
Vicor
MHL
×
20
完善资料，
赚取积分
下载APP
搜索内容
