使用KOH各向异性蚀刻Si的光学器件的单掩模微制造（下）

使用KOH各向异性蚀刻Si的光学器件的单掩模微制造（上）

使用n型GaSb衬底优化干法和湿法蚀刻工艺

超声波频率对化学蚀刻过程的影响实验报告

光致抗蚀剂剥离和清洗对器件性能的影响

一种臭氧氧化和硅蚀刻技术

多晶硅蚀刻残留物的的形成机理

金属蚀刻残留物对对等离子体成分和均匀性的影响

温度对去除氮化物和氧化物层的影响

使用晶片处理技术在硅中产生沟槽结构

蚀刻作为硅晶片化学镀前的表面预处理的效果

硅晶片在氢氧化钾、TMAH和EDP溶液中的蚀刻速率

如何对氮化镓基发光二极管结构进行干法刻蚀

碱性刻蚀表面形貌对p型单晶硅片少数寿命的影响

利用蚀刻法消除硅晶片表面金属杂质​

一种在衬底上蚀刻氮化硅的方法

利用原子力显微镜测量硅蚀刻速率

详解微机械中的各向异性刻蚀技术

通过光敏抗蚀剂的湿蚀刻剂渗透研究

详解微加工过程中的蚀刻技术