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空间映射方法研究及其在LTCC设计中的应用
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2008-12-13
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介绍了空间映射方法的一些基本概念、发展和数学表达。为了能在含大量复杂结构的LTCC电路建模和优化中实现空间映射方法应用，开发了空间映射系统实用软件，并给出了应用多重频率空间映射方法为LTCC平行耦合电容建立增强模型实例。这些工作的完成，能为加快复杂电磁元件设计、优化过程提供有效帮助。
关 键 词 空间映射; 低温共烧陶瓷; 元件建模; 优化
传统的无源优化技术直接利用电磁仿真响应或其派生物，采用数学方法寻优使响应逼近要求。该方法虽然准确，但时间成本大，对于参数量大且复杂的问题几乎不能实现。空间映射方法有望解决上述部分问题，它是结合电路仿真(粗糙模型)快速、成熟性与电磁仿真(精确模型)准确性的新的优化、建模思想，通过构造两模型空间参量映射关系将许多优化工作转移到粗糙空间进行，大大减少精确模型仿真次数，提高了优化效率[1]。空间映射方法的提出为解决复杂、高成本电磁问题带来了新的思想，特别是低温共烧陶瓷电路(Low Temperature Cofired Ceramic，LTCC)中涉及到的多层结构电磁场仿真问题，如按传统方法依靠电磁场仿真软件进行优化，困难性较大，因此本文对空间映射优化方法进行简单阐述，并结合LTCC电路设计实例来说明该方法应用于无源电路优化和建模的具体过程。
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