随着
纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为将来的集成电路的基础. 本文介绍了几种用电子束光刻、反应离子刻蚀方法制备硅量子线、量子点和用电子束光刻、电子束蒸发以及剥离技术制备纳米金属栅的工艺方法;用这种工艺方法在P 型SIMOX硅片上成功制造的一种单电子晶体管,在其电流电压2特性上观测到明显的库仑阻塞效应和单电子隧穿效应.
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