因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准
上海伯东日本原装进口适合大规模量产使用的离子刻蚀机
 Φ4 inch X 12片 | 基片尺寸 | Φ4 inch X 12片 |
样品台 | 直接冷却,水冷 | |
离子源 | Φ20cm 考夫曼离子源 |
离子束刻蚀机 IBE 特性:
1. 干法刻蚀, 物理蚀刻, 纳米级别的刻蚀精度
2. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状
3. 基板直接加装在直接冷却装置上,可以在低温环境下蚀刻.
4. 配置公转自转传输机构 ”Dry Chuck Planet ”, 使得样品可以得到比较均匀平滑的表面. 刻蚀均匀性 ≤±5%
5. 几乎满足所有材料的刻蚀, IBE 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料
6. 配置德国 Pfeiffer 分子泵和旋片泵
7. 机台设计使用自动化的操作流程, 非常友好的使用生产过程
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Hakuto 日本原装设计制造离子束刻蚀机 IBE (离子蚀刻机) 提供 4英寸, 6英寸, 8英寸干法, 纳米级别材料的表面刻蚀, 刻蚀均匀性 ≤±5%. 几乎满足所有材料的刻蚀. 例如磁性材料, 黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属及复合半导体材料, 广泛应用于 RF 射频器件, MEMS 传感器, 磁性器件 …, 满足研发和量产需要. IBE 可用于反应离子刻蚀 RIE 不能很好刻蚀的材料.
伯东公司超过 50年的离子刻蚀市场经验, 拥有庞大的安装基础和经过市场验证的刻蚀技术!
若您需要进一步的了解离子束刻蚀机 IBE 详细信息,
现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士
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