KRi 考夫曼离子源,真空镀膜离子源

型号: KDC 100

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伯东企业(上海)有限公司

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KRI 考夫曼离子源 KDC 100
上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.

KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数:

上海伯东美国 KRi 离子源

* 可选: 可调角度的支架

KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域:
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE

若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请联络上海伯东叶女士

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