搜索内容
登录
刻蚀
2人关注
刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻 ［1］ 相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。
...展开
188
文章
10
视频
0
帖子
13155
阅读
关注标签，获取最新内容
全部
技术
资讯
资料
视频
佰维存储晶圆级先进封测制造项目落地东莞松山湖！
2023-12-01
1548阅读
半导体前端工艺（第四篇）：刻蚀——有选择性地刻蚀材料，以创建所需图形
2023-11-27
861阅读
半导体前端工艺（第五篇）：沉积——“更小、更多”，微细化的关键
2023-11-27
733阅读
聊一聊MEMS先生的微机电系统
2023-11-22
792阅读
脊型GaAs基LD激光芯片工艺过程简述
2023-11-14
1202阅读
浅谈芯片制程工序中片内&片间均匀性的定义和计算
2023-11-01
3568阅读
什么是干法刻蚀的凹槽效应？凹槽效应的形成机理和抑制方法
2023-10-20
1554阅读
基于锑化铟红外焦平面探测器的微透镜阵列方案
2023-10-17
505阅读
各种光刻技术你都了解吗？
2023-10-13
2333阅读
FIB-TEM进行微纳加工和原位研究分析
2023-10-10
2726阅读
半导体制造之光刻原理、工艺流程
2023-10-09
3606阅读
泛林的等离子刻蚀介绍
2023-09-26
400阅读
北方华创：12英寸CCP晶边干法刻蚀设备已在客户端实现量产
2023-09-18
1056阅读
芯片封装为什么要用到*** 封装***与芯片***的区别
2023-09-12
2816阅读
浅谈PCB蚀刻质量及先期存在的问题
2023-09-07
1736阅读
pcb蚀刻是什么意思
2023-09-06
1773阅读
干法刻蚀在工艺制程中的分类介绍（干法刻蚀关键因素研究）
2023-08-28
4018阅读
光伏刻蚀工艺流程 光刻蚀刻加工原理是什么
2023-08-24
4556阅读
刻蚀工艺主要分为哪几种类型 刻蚀的目的是什么？
2023-08-17
6450阅读
半导体制造工艺解析
2023-08-11
2323阅读
上一页
4
/
10
下一页
相关推荐
更多 >
Arduino
28nm
FinFET
20nm
村田
TI公司
罗姆
工业物联网
金升阳
Vicor
MHL
×
20
完善资料，
赚取积分
下载APP
搜索内容
