单晶硅刻蚀工艺流程

EDA探索之MOSFET的微缩-nanosheet era

低功耗贯穿芯片设计全流程

鳍式场效应晶体管工艺流程（FinFET）

使用虚拟实验设计预测先进FinFET技术的工艺窗口和器件性能

FinFET 发展的演变

适用于1nm逻辑技术节点器件架构解析

5nm及更先进节点上FinFET的未来：使用工艺和电路仿真来预测下一代半导体的性能

未来半导体制造需要怎样的EDA工具 机器学习为EDA带来什么改变

浅谈半导体晶体管间距的缩放面积及连续节点的有效密度

FinFET的效用已趋于极限 浅谈晶体管缩放的难题

数字电路处理中仿照技术正在渐渐没落

FinFET与平面MOSFET有什么不同

浅谈FinFET存储器的缺陷修复和测试算法

模拟电路设计面对的节点和代工挑战

引入 FinFET晶体后的多重图案拆分布局和布线

浅谈鳍式场效晶体管（ finFET）寄生提取的复杂性和不确定性

对FinFET技术的详细分析

格芯坚持FDX和FinFET双技术路线

FinFET布局和布线要经受的重大考验