资料下载
×
电解抛光法制备金属钨箔膜?
消耗积分:3 |
格式:rar |
大小:214 |
2010-03-03
laisvl
分享资料个
研究了在硫酸甲醇体系中进行电解抛光制备状态方程（ＥＯＳ）靶用钨薄膜。分析了钨的阳极极化曲线，对薄膜的表面形貌、晶粒取向、密度和厚度一致性进行了测试和分析，并制备出均方根粗糙度小于５０ｎｍ、厚度一致性好于９９％、能够保持原材料密度的钨箔膜，满足激光驱动材料高温高压状态方程研究的标准靶材料的需求，证明电解抛光是制备低表面粗糙度、块材密度的ＥＯＳ所用金属箔材的有效手段。
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。 举报投诉
评论(0)
发评论
- 相关下载
- 相关文章
