搜索内容
登录
光刻技术
1人关注
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。
...展开
136
文章
0
视频
3
帖子
15796
阅读
关注标签，获取最新内容
全部
技术
资讯
资料
帖子
最新CMOS技术发展趋势
2024-11-14
207阅读
一文解读光刻胶的原理、应用及市场前景展望
2024-11-11
279阅读
美投资8.25亿美元建设NSTC关键设施,重点发展EUV光刻技术
2024-11-01
271阅读
电子束光刻技术实现对纳米结构特征的精细控制
2024-10-18
215阅读
光刻工艺中分辨率增强技术详解
2024-10-18
361阅读
光刻工艺的基本知识
2024-08-26
622阅读
日本大学研发出新极紫外(EUV)光刻技术
2024-08-03
860阅读
拯救摩尔定律的浸润式光刻技术
2024-07-11
411阅读
ASML光刻小讲堂 电子束量测中的透视眼 电压衬度检测
2024-06-23
1834阅读
阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用
2024-06-06
623阅读
台积电转变态度？秘密访问ASML总部引发行业关注
2024-05-28
659阅读
光刻工艺流程示意图：半导体制造的核心环节
2024-03-31
2273阅读
三星电子有望在美国获得超过 60 亿美元的补贴
2024-03-15
807阅读
集成电路芯片制造工艺全流程
2024-03-11
3782阅读
纳米压印光刻技术应用在即，能否掀起芯片制造革命？
原创
2024-03-09
4077阅读
光刻机精密碳化硅陶瓷部件揭秘
2024-03-07
801阅读
美光科技: 纳米印刷助降DRAM成本
2024-03-05
666阅读
基于SEM的电子束光刻技术开发及研究
2024-03-04
1790阅读
英特尔：预计2027年末10A节点投产，投资千亿美元扩大晶圆制造
2024-02-28
521阅读
英特尔拟斥资20亿美元扩建爱尔兰半导体工厂，采用先进技术
2024-02-18
628阅读
上一页
1
/
8
下一页
相关推荐
更多 >
拆解
3D打印
贸泽电子
OGS
EUV
14nm
寒武纪
半导体芯片
EnOcean
Heilind
4K
×
20
完善资料，
赚取积分
下载APP
搜索内容
