资料下载
×
EMI溅射镀膜有什么样的特点
消耗积分:1 |
格式:pdf |
大小:0.04 MB |
2020-07-08
417804
分享资料个
真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业，亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛，运用对象包括光电、半导体和LCD产业等，近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备，更是成长迅速。
EMI溅射镀膜具有以下特点：
价格低（国内拥有自主知识产权的话）。
真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5～2µm，绝对不影响装配。
真空溅射是彻底的环保制程，绝对环保无污染。
欲溅射材料无限制， 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用（例：铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽 SiO2等）。
被溅射基材几无限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等）。
膜质致密均匀、膜厚容易控制。
附著力强（ASTM3599方法测试4B）。
可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且，可随客户指定变换镀层次序。
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。 举报投诉
评论(0)
发评论
- 相关下载
- 相关文章
