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定量中子数字成像散射校正的蒙特卡罗模拟
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2011-04-01
nana
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中子数字成像过程中，散射中子可降低像质致使提取样品的定量信息变得困难。针对该情况，分析了中子微光成像系统图像散射降质的原理，采用点扩展函数的叠加来表征散射中子引起图像降质的过程，借助于蒙特卡罗方法（MC）对点扩展函数进行模拟和建模，将点扩展函数描述为样品厚度以及样品到探测器距离为参量的解析函数，研究了点扩展函数的计算方法。研究结果表明，借助于MC方法构建系统的点扩展函数之解析函数，并利用该函数对中子图像进行散射校正，是一种行之有效的定量中子数字成像散射校正方法。
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