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定偏心平面研磨均匀性研究
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2009-08-08
王磊
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定偏心平面研磨均匀性研究:对修正环形抛光机CMP过程进行运动分析,给出研磨盘上一点相对于工件的速度矢量与轨迹方程.详细讨论研磨盘上不同位置的点的相对轨迹,通过对相对速度的讨论发现,当研磨盘与工件具有相同的角速度时,有利于工件平面度的提高.重点分析开螺旋槽的研磨盘对工件平面度的影响,提出用偏心保持架装置替代同心保持架装置,有利于工件平面度提高.实验结果与理论分析相符.
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