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APC技术在刻蚀工艺过程控制中的研究进展

消耗积分:2 | 格式:rar | 大小:343 | 2009-12-19

kmno4

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APC 技术在刻蚀工艺过程控制中的研究进展
王巍 1，吴志刚2
1（重庆邮电学院光电工程系， 重庆 400065）
2（电子科技大学电子工程学院，成都 610054）
摘要：APC 是一个多层次的控制系统，其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的RtR 控制。APC 引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高等离子刻蚀机的使用效率和产品成品率，适应当前深亚微米半导体工艺技术发展的需求。针对等离子体刻蚀机及其刻蚀工艺过程控制的需求，本文分别从实时控制和RtR 控制两个不同层次展开了论述，讨论了APC 技术的发展趋势。
关键词：等离子体刻蚀，APC，实时反馈控制，Run-to-Run 控制
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