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干法刻蚀工艺介绍

消耗积分:5 | 格式:pdf | 大小:4.84 MB | 2022-06-11

林益梅

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刻蚀室半导体IC制造中的至关重要的一道工艺，一般有干法刻蚀和湿法刻蚀两种，干法刻蚀和湿法刻蚀一个显著的区别是各向异性，更适合用于对形貌要求较高的工艺步骤。
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