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背面夹缝曝光的光学模拟及其实验的详细资料说明
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2019-05-24
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背面夹缝曝光是利用光学衍射效应来制备三维微结构的新方法．采用 Ｍａｔｌａｂ对曝光时间和夹缝对三维ＳＵ－８结构形貌的影响进行了模拟，并开展了相应的实验研究．结果表明：背面夹缝曝光是获得三维微结构的简便方法．模拟与实验揭示了相同的规律性，即微结构的侧壁倾斜角度取决于夹缝大小；当夹缝不变时，微结构的侧壁倾斜度不变，但微结构的大小随曝光时间而变化．
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