搜索内容
登录
光刻
7人关注
光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）进行开孔，以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
...展开
264
文章
32
视频
5
帖子
30201
阅读
关注标签，获取最新内容
全部
技术
资讯
资料
帖子
视频
ASML携全景光刻解决方案亮相进博会
2023-11-11
1075阅读
八亿时空：光刻胶树脂量产产能不断提升 预计明年将会贡献一定营收
2023-11-09
831阅读
光刻可制造性检查如何检测掩模版质量
2023-11-02
1263阅读
浅谈芯片制程工序中片内&片间均匀性的定义和计算
2023-11-01
3520阅读
半导体关键材料光刻胶市场格局发展现状
2023-11-01
417阅读
什么是EUV光刻？EUV与DUV光刻的区别
2023-10-30
2780阅读
半导体制造领域光刻胶的作用和意义
2023-10-26
894阅读
光学光刻技术有哪些分类 光刻技术的原理
2023-10-24
885阅读
中国芯片制造厂商无惧封禁！订单一路飙升
2023-10-23
759阅读
Bumping工艺流程工作原理 光刻工艺原理和流程
2023-10-23
1687阅读
突破！打破国外垄断，中国首款自主可控芯片光刻OPC软件
2023-10-20
2393阅读
关于高数值孔径EUV和曲线光掩模等灯具的讨论
2023-10-17
454阅读
俄罗斯要自研***？
2023-10-11
1109阅读
光刻区为什么选黄光灯？为什么不使用红光或绿光？
2023-10-11
2676阅读
芯片制造发展是否存在新路径
2023-10-10
812阅读
聊聊芯片设计、流片那些事
2023-10-10
2056阅读
俄罗斯开发出可替代***的芯片制造设备
2023-10-10
854阅读
半导体制造之光刻原理、工艺流程
2023-10-09
3536阅读
芯片架构计算任务改变对计算架构的需求
2023-09-27
1136阅读
极紫外 (EUVL) 光刻设备技术应用分析
2023-09-25
1065阅读
上一页
4
/
16
下一页
相关推荐
更多 >
IOT
海思
STM32F103C8T6
数字隔离
硬件工程师
wifi模块
74ls74
MPU6050
Protues
UHD
STC12C5A60S2
×
20
完善资料，
赚取积分
下载APP
搜索内容
