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InAs/GaSb II类超晶格长波焦平面阵列台面ICP刻蚀技术研究

半导体制造之离子工艺

伟大的工程之芯片制造

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晶片湿法刻蚀工艺详解

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通过化学湿法刻蚀工艺制备氮化镓基发光二极管

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采用三种刻蚀方法制备黑硅材料

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微机械中的各向异性蚀刻技术与发展方向

一种用非金属掩模层蚀刻碳化硅的方法

n型多孔硅刻蚀时间的效应分析