用蚀刻法测定硅晶片表面的金属杂质

用NaOH和KOH溶液蚀刻硅晶片的比较研究

HF/H2O二元溶液中硅晶片变薄的蚀刻特性

如何利用原子力显微镜测量硅蚀刻速率

丁基醇浓度对Si平面表面形貌和蚀刻速率的影响

晶圆级自清洁反射硅表面的简单方法

微细加工湿法蚀刻中不同蚀刻方法

单晶硅片碱性溶液中的蚀刻速率

怎样通过重新化学表面处理改善水痕缺陷

AFN块体单晶的湿法蚀刻和红外吸收研究报告

一种改进的各向异性湿法蚀刻工艺

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二氧化硅薄膜蚀刻速率均匀性的比较

用于化学分析应用的Si各向异性湿法化学蚀刻

晶圆湿式用于硅蚀刻浴晶圆蚀刻

二氧化硅蚀刻标准操作程序研究报告

Cu杂质对Si(110)湿法蚀刻的影响

半导体器件制造中的蚀刻技术

各向同性和各向异性工艺如何用于改善硅湿蚀刻

250℃电子束沉积ITO和HCl湿法蚀刻的方法说明