KOH溶液中氮化铝的湿化学蚀刻

使用酸性溶液对硅晶片进行异常各向异性蚀刻

硅晶片的酸刻蚀实验分析

蓝宝石LED蚀刻的新要求

HF溶液中二氧化硅刻蚀机理实验

HF、HNO3和H2O体系中硅的化学刻蚀实验

氢氧化钾在凸角处的蚀刻行为

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湿法蚀刻工艺的作用：可有效去除金属氧化物

用蚀刻法对金属陶瓷薄膜进行电阻修整

HF/HNO3和氢氧化钾溶液中深湿蚀刻对硅表面质量的影响

湿法处理衬底的设备和系统装置

《华林科纳-半导体工艺》减薄硅片的蚀刻技术

III族氮化物的干法和湿法蚀刻

SC1/SC2蚀刻后Si表面的分析

氮化铝单晶的湿法化学蚀刻

局部湿蚀刻法制备硅玻璃凹微透镜阵列

湿法蚀刻的GaAs表面研究报告

湿法清洗后氢封端表面的原子级分析