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精密薄膜技术

消耗积分:2 | 格式:pdf | 大小:492.57KB | 2022-11-24

戚歆敦

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本文旨在帮助电路设计师和元器件工程师提高对薄膜技术的理解。这篇文章是了解薄膜技术的使用及其在可靠性、尺寸和性能方面提供的显着优势的指南。本文旨在帮助电路设计师和元器件工程师提高对薄膜技术的理解。这篇文章是了解薄膜技术的使用及其在可靠性、尺寸和性能方面提供的显着优势的指南。图 1: Vishay图 1: Vishay提供的薄膜技术(图片来源:Vishay)提供的薄膜技术(图片来源:Vishay)胶卷类型胶卷类型通常,薄膜被溅射到大约 500 埃的厚度上。选择具有不同线宽和线间距的掩模用于制造欧姆值范围。薄膜电阻率也可以从每平方 50 欧姆到每平方 2000 欧姆不等。每部电影都有特定的目的。一般来说,薄层电阻率越低,整体电气性能越好。Vishay 是所有薄膜类型的唯一供应商和制造商。通常,薄膜被溅射到大约 500 埃的厚度上。选择具有不同线宽和线间距的掩模用于制造欧姆值范围。薄膜电阻率也可以从每平方 50 欧姆到每平方 2000 欧姆不等。每部电影都有特定的目的。一般来说,薄层电阻率越低,整体电气性能越好。Vishay 是所有薄膜类型的唯一供应商和制造商。镍铬合金 (NiCr)镍铬合金 (NiCr) — 最受欢迎的薄膜在绝对 TCR 方面具有最佳电气规格。常见的薄膜电阻率为每平方 50、100 和 200 欧姆。 — 最受欢迎的薄膜在绝对 TCR 方面具有最佳电气规格。常见的薄膜电阻率为每平方 50、100 和 200 欧姆。TameloxTamelox — Vishay Thin Film 的专有合金;结合了镍铬合金和氮化钽的优点,提高了 TCR 线性度。 — Vishay Thin Film 的专有合金;结合了镍铬合金和氮化钽的优点,提高了 TCR 线性度。氮化钽 (TaN2)

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