本文档的主要内容详细介绍的是半导体集成电路的三个经典问题资料说明包括了:1.名词解释:隐埋层,寄生晶体管,介质隔离,PN结隔离。2.简单叙述一下PN结隔离的npn晶体管的光刻步骤?3.四层三结的结构的双极性晶体管中隐埋层的作用是什么?
隐埋层: 是隐埋在硅片体内的高掺杂低电阻区
寄生晶体管: 指有寄生电容的晶体管,寄生电容是通常无可避免却又不被需要,仅因为电路元件相互接近而产生的电容。
介质隔离: 双极型集成电路中的介质隔离常采用氧化物隔离方法,即在形成三极管区域的四周构筑一隔离环,该隔离环为二氧化硅绝缘体,因而集成电路中的各个三极管之间,以及各三极管与其他元件之间是完全电隔离的。
PN结隔离:两个晶体管分别在两个隔离区内,他们的集电区是n型外延层,两个晶体管的集电区间隔着两个背靠背的pn结,只要使p型衬底的电位比晶体管的集电区的电位低,两个晶体管就被反向偏置的pn结的直流高阻所隔开,实现所谓的电学隔离的目的。
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