资料下载
掩膜式压力传感器技术的成熟度详细分析
分享资料个
根据技术成熟度模型，掩膜式压力传感器是典型的高技术产品，其技术的创新提高到商品同样要经过四个阶段，第一阶段进行基础研究，第二阶段进行应用研究，第三阶段进行产品开发，第四阶段进行产品生产。
当传感器产品进入市场后，合作伙伴和用户一般会进行各种反馈，生产者也会主动收集用户反馈，以便更好地开发和服务。反馈过程相应也有四级，第一级反馈到产品生产阶段，第二级反馈到产品开发阶段，第三级反馈到应用研究阶段，第四级反馈到基础研究阶段。其中第一级反馈主要解决的是产品质量和成本问题，第二级反馈主要解决的是产品工艺问题，第三级反馈主要解决的是新产品开发问题，第四级反馈则是针对最基本的自然规律的认识问题。
掩膜式压力传感器技术的基础研究，主要为掩膜电路优化设计，即研究对压力敏感的、线性可测的掩膜电路，该理论研究非常成熟，有各种优化方案。掩膜技术本来也是基础研究的内容，现在已经十分成熟，就不当做问题探讨了。
应用研究主要探讨不同温度、湿度、压力和环境范围（主要指液压、气压或固压，酸碱性或腐蚀性等环境）对掩膜传感器的要求，或研究各种掩膜传感器适应的需求。在此阶段，有几个技术问题长期困扰研究者：
一、温度敏感问题
压力传感器中的掩膜电路随着温度变化会产生误差，有时可能严重到传感器失效的程度。温度不敏感的传感器，一般属于高端产品。
二、高阻抗困难
阻抗高（5K欧姆以上），则损耗小。尤其是航天和军事应用对此有严格要求，具备高阻抗的传感器一般属于高端产品。
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。 举报投诉
- 相关下载
- 相关文章
