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集成电路加工光致抗蚀剂概念与光刻技术的介绍
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2017-09-29
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本文主要介绍集成电路加工-光刻技术与光刻胶。集成电路加工主要设备和材料：光刻设备，半导体材料：单晶硅等，掩膜，化学品：光刻胶（光致抗蚀剂），超高纯试剂，封装材料及光刻机的介绍
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